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高溫四探針綜合測(cè)試系統(tǒng)的符合標(biāo)準(zhǔn)與應(yīng)用

日期:2021-04-20瀏覽:1539次

  高溫四探針綜合測(cè)試系統(tǒng)(包含薄膜,塊體功能)是為了更方便的研究在高溫條件下的半導(dǎo)體的導(dǎo)電性能,該系統(tǒng)可以*實(shí)現(xiàn)在高溫、真空及惰性氣氛條件下測(cè)量硅、鍺單晶(棒料、晶片)電阻率和外延層、擴(kuò)散層和離子層的方塊電阻及測(cè)量其他方塊電阻。
 
  高溫四探針綜合測(cè)試系統(tǒng)符合的標(biāo)準(zhǔn):
 
  1、符合GB/T 1551-2009《硅單晶電阻率測(cè)定方法》
 
  2、符合GB/T 1552-1995《硅、鍺單晶電阻率測(cè)定直流四探針?lè)ā?br /> 
  最后我們來(lái)了解一下高溫四探針綜合測(cè)試系統(tǒng)的應(yīng)用:
 
  1、測(cè)試硅類(lèi)半導(dǎo)體、金屬、導(dǎo)電塑料類(lèi)等硬質(zhì)材料的電阻率/方阻;
 
  2、可測(cè)柔性材料導(dǎo)電薄膜電阻率/方阻;
 
  3、金屬涂層或薄膜、陶瓷或玻璃等基底上導(dǎo)電膜(ITO膜)電阻率/方阻;
 
  4、納米涂層等半導(dǎo)體材料的電阻率/方阻;
 
  5、電阻器體電阻、金屬導(dǎo)體的低、中值電阻以及開(kāi)關(guān)類(lèi)接觸電阻進(jìn)行測(cè)量;
 
  6、可測(cè)試電池極片等箔上涂層電阻率方阻。

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